![F4H](/jp/files/default/2023-03/00_F4H_3_690_380.jpg)
応答性・制御性に優れた 弊社マスフローコントローラを、大幅に小型化しデジタル通信機能を発展させることで 製造装置の小型化・トータルコスト削減・製造現場のDXに貢献する製品です。
- 小型化で省スペースに貢献
- デジタル通信を容易に構築
- 強力な耐ノイズ性
アプリケーション
PVD(Physical Vapor Deposition)
画像
![F4H-6](/jp/files/default/styles/hero_image/public/2023-03/F4H-6_0.gif?itok=9IeYO0mZ)
プロセスチャンバーの真空度を制御するために、アルゴンガスなどを供給します。
プラズマ電源からの強いノイズに対する耐ノイズ性、 真空度を正確に制御するために優れた制御性と高精度が貢献します。
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