高難度アライメント工程の安定検出を実現する高精度位置計測センサ 形 K1G

• 露光装置やマスク検査装置などでは、ワークやマスクの位置を高精度かつ安定して計測することが求めらている。
• しかし、ガリウムひ素ウエハのような半透明ワークや、 透明マスクのような対象は、一般的なセンサでは検出が不安定になりやすい。

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半透明シリコンウエハ・透明マスクの位置を高精度に計測

半透明シリコンウエハや透明マスクは、 位置検出が難しい対象です。 形 K1Gは、こうした難検出ワークに対しても 高精度な位置計測を可能にする短波長レーザーの採用と、 独自アルゴリズムを搭載しています。 

これにより、従来は安定検出が困難だったワークに対しても 高精度な位置計測を実現し、 位置合わせ精度の向上と装置性能の安定化に貢献します。

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XYθ計測とEtherCAT🄬通信に対応し、高度なアライメント制御を支援

形 K1G は、複数センサを組み合わせることで アライメント工程で求められるXYθ計測に対応可能です。

また、EtherCAT🄬通信 に対応しているため、 上位制御との高速なデータ連携を実現し、 高精度な位置計測結果を装置制御にスムーズに反映できます。

これにより、詳細なアライメント工程における位置決め精度の向上と 装置全体の制御性向上に貢献します。