사례·유용한 자료

사례

CP-PC-M1604-001E

매스 플로우 컨트롤러 적용 사례

이 문서에서는 디지털 질량 유량 컨트롤러를 활용하여 가스 침탄로, 배양 인큐베이터, 가스 절단기, 배기가스 처리 시스템, MLCC 소성로에서의 가스 유량 제어 문제를 해결한 사례를 소개합니다.

CP-PC-9030-008E

소형 회전 인덱스 테이블의 미세한 스트로크 변화(3~5mm)를 안정적으로 감지하며, 설정도 간편합니다 – 머시닝 센터, 회전 인덱스 테이블 –

CP-PC-9060-001E

의약품 제조를 위한 사용이 간편한 매스 플로우 컨트롤러

CP-PC-9000-001E

[Batch식 및 싱글 웨이퍼 세정 장비] 액체 누설을 안정적으로 감지하는 센서를 제공합니다.

CP-PC-9070-001E

정밀한 가스 유량 제어로 화염이 안정되어 절단 시 품질이 향상됩니다 – 가스 절단기 –

CP-PC-9010-003E

[진공 장비(CVD, PVD, 에칭)] 액체 누설을 안정적으로 감지하는 센서를 제공합니다.

CP-PC-9000-011E

매스 플로우 컨트롤러를 통해 엔지니어링 작업 시간을 절감할 수 있습니다.

CP-PC-9000-002E

[Batch식 및 싱글 웨이퍼 세정 장비] 액면을 안정적으로 감지하는 센서를 제공합니다.

반도체 제조용 Batch식 또는 싱글 웨이퍼 세정 장비에서 액면 감지와 관련된 문제를 겪고 계신가요?

CP-PC-9050-001E

농축 가스 유량을 보다 정밀하게 제어함으로써 탄소 포텐셜(CP)이 안정되어 침탄 품질이 향상됩니다 – [연소 및 저항로] 가스 침탄로 –

CP-PC-9000-009E

웨이퍼 세정용 화학약품의 보다 균일한 도포

다음과 같은 문제가 있으신가요? 배관 막힘 등으로 압력과 유량의 관계가 변하면, 약액의 투입량이 달라져 세정 품질에 영향을 줄 수 있습니다.