【 半導体製造装置 】ロードポート工程 FOUP内窒素パージの流量制御でお悩みの方へ

こんなお悩みありませんか?

 

FOUP内
窒素パージ
流量制御の
お悩み
  • パーティクル巻き上げが発生するため、防止策を講じているが、ロジック作成に時間がかかる。
  • マスフローコントローラで設定ができず、状態もわからないため、メンテナンスの際に専用のチェッカーを使用しており、時間がかかっている。
  • ユーザーの現場の出入りは厳しく管理されているため、トラブル対応に時間がかかる。
Image
パーティクル巻き上げ防止
Image
マスフロー
Image
F4Q_ 現場
上位機器側でパージ流量の
立ち上がりを調整するための
ロジックを組んでいる
既設設備への後付けで、
ロジックを追加するのに工数がかかる。
従来のマスフローコントローラは
アラームや流量が表示されないので
異常有無が判断できない 

半導体工場に専用チェッカーを
持込みするのは手間がかかる
マスフローコントローラに関する
問い合わせがあっても
現場で確認したり、メーカを同行させる
ことができず、解決に 時間がかかる

 

アズビルのマスフローコントローラなら

Image
F4Q

 

メリット①

マスフローコントローラで窒素流量立上がり特性の調整が可能。

形 F4QのSPランプ機能により1秒あたりの流量変化量が設定できます。既設装置上位機器のロジックを 改造する必要がありません。

 

Image
LSPランプ
Image
F4Q_ロードポート工程
Image
ダウンロード
Image
F4Q_ロードポート工程

資料番号:CP-PC-9000-011